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[중국] 中, 3나노 반도체 제조가능 DUV 레이저 개발
- 단신 속보뉴스
- 중국
- 선양무역관
- 2025-03-26
- 출처 : KOTRA
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□ 중국이 자체적으로 심자외선(DUV) 레이저를 개발한 것으로 전해졌음
ㅇ 중국과학원의 연구팀이 고체형 DUV 레이저를 개발했으며, 연구성과는 논문 형식으로 국제 학술지 '어드밴스드 포토닉스'에 발표됐음
ㅇ 중국과학원 연구팀이 개발한 DUV 레이저는 193nm(나노미터)의 동조된 광을 방출할 수 있음. 이는 현재 주류 DUV 노광기의 파장과 일치함.
ㅇ 연구진은 혁신형 고체형 레이저 방식을 통해 DUV 레이저를 개발해 냈으며, 이론적으로 3nm 반도체 공정까지 확장할 수 있는 잠재력을 갖추고 있다고 설명했음.
* 원문기사 링크: https://news.china.com/socialgd/10000169/20250325/48128442.html
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